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Official data from INPI

SONDA PARA METAL FUNDIDO.

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI9900071

Type

Invention Patent

Filing

01/15/1999

Publication

01/18/2000

Progress at the INPI

  1. Filing01/15/99
  2. Publication01/18/00
  3. Examination
  4. Allowance04/03/12
  5. Grant09/18/12
  6. Expired11/08/22

The letters patent expired on 11/08/2022: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/08/2022. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

KAWASO ELECTRIC INDUSTRIAL KABUSHIKI KAISHA

JP

Inventors

O. I. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

10-23738 · 01/20/1998

Abstract

SONDA PARA METAL FUNDIDO. Sonda para metal fundido que é mergulhada no metal fundido e posteriormente retirada do mesmo e que é capaz de preferencialmente fornecer dados de temperatura de solidificação do metal fundido e fornecendo uma amostra solidificada. Um corpo principal da sonda inclui um trajeto de introdução confrontando uma entrada de escoamento formada em uma porção lateral do mesmo, um trajeto de comunicação e um trajeto de amostragem ramificados respectivamente em sentido ascendente e descendente a partir do trajeto de introdução, uma câmara de medição de temperatura comunicando-se com o trajeto de comunicação estendendo-se em sentido ascendente, uma câmara de amostragem comunicando-se com o trajeto de amostragem estendido em sentido descendente, e um sensor de temperatura confrontando a câmara de medição de temperatura.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

PATENTE EXTINTA EM 18/09/2022

11/08/2022

RPI 2705

Concessão da patente

#16.1

09/18/2012

RPI 2176

Deferimento

#9.1

04/03/2012

RPI 2152

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

05/10/2011

RPI 2105

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

06/22/2010

RPI 2059

Publicação do pedido de patente

#3.1

01/18/2000

RPI 1515

Patent monitoring

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