APARELHO PARA REALIZAR DEPOSIÇÃO QUÍMICA DE VAPOR DO PLASMA, E, PROCESSOS PARA FABRICAR UMA FIBRA ÓTICA, PARA FABRICAR UMA HASTE DE PREFORMA DE FIBRA ÓTICA E PARA FABRICAR UM TUBO DE REVESTIMENTO PARA UMA PREFORMA DE FIBRA ÓTICA

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Abstract

"APARELHO PARA REALIZAR DEPOSIÇÃO QUÍMICA DE VAPOR DO PLASMA, E, PROCESSOS PARA FABRICAR UMA FIBRA ÓTICA, PARA FABRICAR UMA HASTE DE PREFORMA DE FIBRA ÓTICA E PARA FABRICAR UM TUBO DE REVESTIMENTO PARA UMA PREFORMA DE FIBRA ÓTICA". A invenção é relativa a um aparelho para realizar deposição química de vapor do plasma (PCVD), pelo que uma ou mais camadas de sílica podem ser depositadas sobre um substrato vítreo alongado, o aparelho compreendendo uma guia de microonda alongada que emerge no interior de uma cavidade ressonante, a qual é substancialmente simétrica cilindricamente ao redor de um eixo cilíndrico, ao longo de cujo eixo o substrato pode ser posicionado, em cujo aparelho: a cavidade é substancialmente anular em forma, com uma parede cilíndrica interna e uma parede cilíndrica externa; a parede cilíndrica interna compreende uma fenda que se estende em um circulo completo ao redor do eixo cilíndrico; a guia tem um eixo longitudinal que é substancialmente perpendicular ao eixo cilíndrico e que não intercepta a fenda. A invenção também é relativa a um processo para fabricar uma fibra ótica, uma haste de preforma, e um tubo de revestimento que utiliza dito aparelho, bem como a fibra ótica assim obtida.