Extinção para fins de restauração (art. 87)
#21.6
Referente ao despacho 24.3 publicado na RPI 2002 de 19/05/2009.
02/17/2010
RPI 2041
Application data
Number
PI9710894Type
Filing
Publication
PCT
GB1997002045 The patent was granted on 07/22/2003 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 02/17/2010. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Goodwin International Limited
GB
Inventors
K. B. (pessoa física)
GB
IPC Classification
Priority claims
GB
9616013.0 · 07/30/1996
Abstract
Patente de Invenção: "VÁLVULA DE RETENÇÃO DE DUAS PLACAS" . Uma válvula de retenção de duas placas compreende um corpo de válvula substancialmente cilíndrico (10) dotado de um elemento transversal diametral (14) definindo com isso um par de aberturas conformadas substancialmente em D, e duas placas substancialmente conformdas em D (18) conectadas de maneira pivotante por meio de um dispositivo de dobradiça (20) paralelo ao dito elemento transversal (14), e que pode ser pivotado entre uma posiçào de válvula aberta e uma posição de válvula fechada, na qual a face de vedação de cada placa engata uma face de vedação fornecido em um assento de válvula (16), que circunda cada abertura. É fornecido um sulco em cada face de vedação, o qual é então preenchido com uma solda embutida (40, 42), e então usinado para proporcionar uma porção de face de vedaçào de uma liga metálica mais durável.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#21.6
Referente ao despacho 24.3 publicado na RPI 2002 de 19/05/2009.
02/17/2010
RPI 2041
referente á 9ª , 10ª , 11ª e 12ª anuidades.
05/19/2009
RPI 2002
#16.1
07/22/2003
RPI 1698
#9.1
12/03/2002
RPI 1665
#6.1
01/29/2002
RPI 1621
#1.3
08/17/1999
RPI 1493
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