Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
02/22/2012
RPI 2146
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Official data from INPI
PROCESSO PARA LIMPEZA DE UM SUBSTRATO E USO DE UMSISTEMA ATIVADOR DE OXIGENIO MOLECULAR
IndeferidaInvention PatentPCT · EP1997001287
Application data
Number
PI9708553Type
Invention Patent
Filing
03/12/1997
Publication
09/28/1999
PCT
EP1997001287 Progress at the INPI
- Filing03/12/97
- Publication09/28/99
- Examination
- Refused02/22/12
- Grant
- In force
The application was refused on 02/22/2012 and the appeal did not change the decision. The invention was never patented and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 02/22/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Unilever NV
EP
Inventors
J. K. (pessoa física)
NL
Technical data
IPC Classification
Priority claims
EC
96200935.3 · 04/10/1996
Abstract
"PROCESSO PARA LIMPEZA DE UM SUBSTRATO E USO DE UM SISTEMA ATIVADOR DE OXIGÊNIO MOLECULAR". É divulgado um processo para limpeza de um substrato, que compreende as etapas de (1) adicionar um sistema ativador de oxigênio molecular (como definido aqui) a uma solução aquosa para lavagem, que contém uma quantidade suficiente de oxigênio molecular para a obtenção de uma limpeza que pode ser observada e (2) limpeza do substrato com a solução de lavagem assim formada. Quando se usa o dito processo podiam até mesmo ser obtidos resultados significativos de limpeza do substrato na ausência de qualquer ingrediente de oxigênio ativo habitualmente aplicado tal como perborato ou percarbonato.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Indeferimento
#9.2
Indefiro o presente pedido de patente de acordo com Art. 8º da LPI.
02/10/2009
RPI 1988
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
08/19/2008
RPI 1963
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
07/13/2004
RPI 1749
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
09/28/1999
RPI 1499
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