Carta-patente expirada
#21.1
Patente extinta em 30/12/2014
06/23/2015
RPI 2320
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Official data from INPI
PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE RESINA POLIMÉRICA COM VISCOSIDADE E pH AJUSTÁVEIS E PROCESSO PARA O DEPÓSITO DE PALÁDIO CATALÍTICO SOBRE UM SUBSTRATO
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · BE1994000099
Application data
Number
PI9406226Type
Invention Patent
Filing
12/30/1994
Publication
01/09/1996
PCT
BE1994000099 Progress at the INPI
- Filing12/30/94
- Publication01/09/96
- Examination
- Allowance09/05/00
- Grant02/20/01
- Expired06/23/15
The letters patent expired on 06/23/2015: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/23/2015. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Blue Chips Holding
LU
Blue Chips Holding S.A.
LU
Semika S.A.
LU
Inventors
H. S. (pessoa física)
BE
J. S. (pessoa física)
BE
M. F. (pessoa física)
BE
M. D. (pessoa física)
BE
O. D. (pessoa física)
BE
P. D. (pessoa física)
BE
Technical data
IPC Classification
Priority claims
BE
94 00003 · 01/05/1994
Abstract
Patente de Ivenção: "RESINA POLIMÉRICA COM VISCOSIDADE E pH AJUSTÁVEIS PARA O DEPÓSITO DE PALÁDIO CATALÍTICO SOBRE UM SUBSTRATO, SEU PROCESSO DE PREPARAçÃI E SUA UTILIZAçÃO". Resina polimérica com viscosidade e pH ajustáveis para o depósito de pal3adio catalítico sobre um substrato, compreendendo, em combinação, um sal de paládio, um complexante do tipo ácido carboxílio ou cloreto, um polímero contendo grupos e/ou carboxila solúvel em água, um composto básico e um solvente escolhido entre a água, o metanol e o etanol, seu processo de preparação e suas aplicações.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Transferência deferida
#25.1
Transferido de: Semika S.A.
05/29/2012
RPI 2160
Transferência deferida
#25.1
Transferido de: Blue Chips Holding
03/29/2005
RPI 1786
Concessão da patente
#16.1
02/20/2001
RPI 1572
Deferimento
#9.1
Observação: Na confecção da Carta Patente deverão ser apostilados os seguintes erros datilográficos: No quadro reivindicatório, na pág. 4, linhas 17, 21 e 26 e na pág. 5, linhas 3, 7 e 11 onde se lê "de que concentração", leia-se "de que a concentração"; e na pág. 8, linha 16 onde se lê "laser, spray", leia-se "laser ou spray", e nas linhas 20 e 21 onde se lê "eletromagnéticas, de motivos decorativos", leia-se "eletromagnéticas ou de motivos decorativos".
09/05/2000
RPI 1548
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
05/02/2000
RPI 1530
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
11/16/1999
RPI 1506
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
01/09/1996
RPI 1310
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