PROCESSO E DISPOSITIVO PARA O TRATAMENTO CONTÍNUO DE SILÍCIO

IPC Classification

Priority claims

Abstract

A invenção refere-se a um processo para o tratamento contínuo de silício, no qual uma escória é levada em um baixo forno de cuba inclinável 1 com um tubo de descarga (4) que chega até o fundo da caldeira do forno, para uma temperatura de 1450 até 1800°C e por meio desta escória o silício sólido é fundido e/ou o silício líquido é continuamente refinado e o silício refinado líquido é atomizado, em seguida, por meio de ar comprimido ou de nitrogênio comprimido (7) e é transportado continuamente pela versão em um jato de água (9) para a calha (8) através de uma peneira de desidratação (10) para uma calha transportadora (11) e é obtido, assim, em forma pré-triturada. A invenção refere-se, além disso, a um dispositivo para exercer o processo.