POLÍMEROS, COMPOSIÇÕES SENSÍVEIS À RADIAÇÃO, PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE IMAGENS POSITIVAS, EMPREGO E FORMAS DE IMPRESSÃO

IPC Classification

Priority claims

Abstract

A invenção refere-se a polímeros com um peso molecular (M~ W~) de 10^ 3^ até 10^ 6^, medido por meio de cromatografia de permeação de gel contendo, com relação à quantidade total dos elementos estruturais presentes no polímero, 100 até 10 % em mol do elemento estrutural periódico da fórmula I (vide fórmula (I)) em que A representa um radical da fórmula Ia (vide fórmula (Ia) e 90 até 0 % em mol do elemento estrutural periódico da fórmula II (vide fórmula (II) em que R~ 1~ representa hidrogênio, metila ou halogênio, R~ 2~ representa hidrogênio ou metila, R~ 3~ representa hidrogênio, C~ 1~ -C~ 6~ -alquila ou C~ 6~ -C~ 12~ -arila e R~ 4~ representa C~ 1~ -C~ 6~ -alquila, C~ 6~ -C~ 12~ -arila insubstituída ou substituída por C~ 1~ -C~ 4~ -alquila, C~ 1~ -C~ 4~ -alcóxi, C~ 6~ -C~ 12~ -arila, halogênio ou grupos nitro ou representa um radical -OR~ 5~, em que R~ 5~ representa C~ 1~ -C~ 6~ -alquila ou C~ 6~ -C~ 12~ -arila, ou em que R~ 3~ e R~ 5~ juntos representam um radical propileno, butileno ou pentileno insubstituído ou substituído por C~ 1~ -C~ 4~ -alquila, C~ 1~ -C~ 4~ -alcóxi, C~ 6~ -C~ 12~ -arila ou C~ 6~ -C~ 12~ -arilóxi, R~ 6~ e R~ 7~ independentes entre si, representam em cada caso, hidrogênio, C~ 1~ -C~ 4~ -alquila insubstituída ou substituída por halogênio, por grupos ciano ou nitro ou representam fenila ou naftila insubstituída ou substituída por halogênio, por grupos C~ 1~ -C~ 4~ -alcóxi, hidróxi, ciano ou por grupos nitro, R~ 8~ e R~ 9~ independentes entre si, representam em cada caso, hidrogênio ou halogênio, C~ 1~ -C~ 12~ -alquila insubstituída ou substituída por halogênio, por grupos, ciano ou nitro, fenila, naftila ou benzila insubstituída ou substituída por alogênio, por grupos hidróxi, ciano, nitro, C ~ 1~ -C~ 4~ -alquila ou C~ 1~ -C~ 4~ -alcóxi ou representam um dos seguintes radicais -OR~ 10~, -COOR~ 11~ ou -COR~ 12~, em que R~ 10~ e R~ 11~ independentes entre si, representam em cada caso, hidrogênio, C~ 1~ -C~ 12~ -alquila insubstituída ou substituída por halogênio, por grupos ciano ou nitro, fenila ou naftila insubstituída ou substituída por halogênio, por grupos ciano, nitro, C~ 1~ -C~ 4~ -alquila ou C~ 1~ -C~ 4~ -alcóxi e R~ 12~ tem o mesmo segnificado de R~ 10~ e, além disso, representa o radical (vide fórmula N), no qual R~ 13~ e R~ 14~ independentes entre si, têm o mesmo significado de R~ 10~, bem como composições contendo estes polímeros sensíveis à radiação. Estas composições prestam-se especialmente para a preparação de circuitos integrados .