Publicação do pedido de patente
#3.1
04/26/1988
RPI 914
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Official data from INPI
MÉTODO PARA DEPOSIÇÃO QUÍMICA EM FASE DE VAPOR, A BAIXA TEMPERATURA E BAIXA PRESSÃO, DE CAMADA(S) EPITAXIAL(AIS) DE SILÍCIO
PublicadaInvention Patent
Application data
Number
PI8704621Type
Invention Patent
Filing
09/04/1987
Publication
04/26/1988
Progress at the INPI
- Filing09/04/87
- Publication04/26/88
- Examination12/11/90
- Allowance10/17/95
- Grant07/30/96
- Expired07/29/08
The letters patent expired on 07/29/2008: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 04/26/1988. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
I. C. (pessoa física)
US
Inventors
B. M. (pessoa física)
US
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Pedido de patente depositado
#2.1
11/17/1987
RPI 891
Carta-patente expirada
#21.1
Patente extinta em 04/09/2002
07/29/2008
RPI 1960
Concessão da patente
#16.1
07/30/1996
RPI 1339
Republicação - classificação IPC
#15.11
12/19/1995
RPI 1307
Deferimento
#9.1
10/17/1995
RPI 1298
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
05/30/1995
RPI 1278
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
12/13/1994
RPI 1254
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
03/29/1994
RPI 1217
Solicitação de exame técnico
#4.1
12/11/1990
RPI 1045
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