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Official data from INPI

SISTEMA E MÉTODO DE REDUÇÃO DE VAPOR ADAPTATIVO DINÂMICO

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI1100949

Type

Invention Patent

Filing

03/11/2011

Publication

02/19/2013

Progress at the INPI

  1. Filing03/11/11
  2. Publication02/19/13
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 03/11/2011 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 12/23/2014. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Itron, Inc.

US

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Inventors

J. S. (pessoa física)

US

R. C. (pessoa física)

US

Technical data

Abstract

SISTEMA E MÉTODO DE REDUÇÃO DE VAPOR ADAPTATIVO DINÂMICO. Um sistema e um método para medições melhoradas de fluxo para GLC, tal como gás liquefeito de petróleo (GLP) são mostrados. As modalidades da presente tecnologia detectam a presença de um vapor em um fluido fluindo em um medidor de fluxo em massa. Uma válvula de controle então é ajustada para o fornecimento de contrapressão suficiente para se evitar que o liquido medido se inflame e para a redução da presença deum vapor em um fluido fluindo em um medidor de. fluxo em massa. Uma válvula de controle então é ajustada para o fornecimento de contrapressão suficiente para se evitar que o líquido medido inflame e reduza a presença de vapor no fluido fluindo no medidor de fluxo em massa. Ao manter o fluido em forma líquida, a presente tecnologia reduz o vapor fluindo no medidor de fluxo em massa, aumentando a acurácia de medição de fluxo em massa e outras. Utilizando um principio similar de detecção de vapor, as modalidades da presente tecnologia provêem um cálculo melhorado de valor de parâmetro médio, tais como cálculos de densidade média e cálculos de volume de liquido equivalente.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

12/23/2014

RPI 2294

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

04/22/2014

RPI 2259

Publicação do pedido de patente

#3.1

02/19/2013

RPI 2198

Pedido de patente depositado

#2.1

05/15/2012

RPI 2158

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 20110023129 em 11/03/2011 04:04(RJ).

12/06/2011

RPI 2135

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