DISPOSITIVO DE DOSAGEM PARA GERAR UM FLUXO DE GÁS COM UMA SUBSTÂNCIA ATIVA FINAMENTE DISPERSADA NO ÚLTIMO.

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Abstract

DISPOSITIVO DE DOSAGEM PARA GERAR UM FLUXO DE GÃS COM UMA SUBSTÃNCIA ATIVA FINAMENTE DISPERSADA NO ÃLTIMO.(1) Dispositivo de dosagem para gerar um fluxo de gás com umasubstância ativa finamente dispersada no último. (1) A invenção refere-se a um dispositivo de dosagem para gerar um fluxo de gás com uma substância ativa (2) finamente dispersada no último, como um resultado de uma pressão inferior aplicada a uma embocadura (6) do dispositivo de dosagem, com um primeiro canal de fluxo de gás (60, 61, 62, 63, 68) e uma câmara de dosagem (14) que pode ser ajustada na área do primeiro canal de fluxo de gás, e com um mecanismo de liberação na câmara de dosagem que tem um elemento de separação (54, 76, 77) que pode ser deslocado entre uma posição fechada e uma posição aberta, em o primeiro canal de fluxo de gás e/ou uma conexão entre o primeiro canal de fluxo de gás e a câmara de dosagem é bloqueado quando o elemento de separação está na posição fechada, e o primeiro canal de fluxo de gás e/ou a conexão entre o primeiro canal de fluxode gás e a câmara de dosagem é libertada quando o elemento de separação está na posição aberta, e com um elemento guia de deslizamento (53, 55) no qual o elemento de separação (54, 76, 77) é móvel entre a posição fechada e a posição aberta e pode ser acionado pela pressão inferior aplicada à embocadura, e sendo que o elemento de separação e/ou o elemento guia de deslizamento é provido pelo menos na área de contato deslizante com o elemento de deslizamento (100a, 100b, 101) que influencia as propriedades de atrito deslizantes. Este projeto de elemento de separação e/ou de elemento guia de deslizamento assegura que o elemento de separação é confiavelmente ativado após uma corrente de sucção ser gerada, de modo que a função do dispositivo de dosagem pode ser mais precisamente reproduzida e é mais confiável.