Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
08/02/2016
RPI 2378
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Official data from INPI
COMPOSIÇÃO DE LIMPEZA DE FOTORRESISTE CONTENDO ÁCIDO GLUCÔNICO PARA PROCESSAMENTO DISPOSITIVO DE MULTIMETAIS.
ArquivadaInvention PatentPCT · US2009061585
Application data
Number
PI0920830Type
Invention Patent
Filing
10/22/2009
Publication
12/22/2015
PCT
US2009061585 Progress at the INPI
- Filing10/22/09
- Publication12/22/15
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 10/22/2009 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 08/02/2016. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Avantor Performance Materials, Inc
US
Inventors
S. I. (pessoa física)
US
Technical data
Priority claims
US
61108942 · 10/28/2008
Abstract
COMPOSIÃÃO DE LIMPEZA DE FOTORRESISTE CONTENDO ÃCIDO GLUCÃNICO PARA PROCESSAMENTO DISPOSITIVO DE MUL TIMETAIS. A presente invenção refere-se a uma composição de limpeza de fotorresiste microeletrônico, apropriada para limpar dispositivos microeletrônicos de multimetais, e para fazer isso sem que ocorra qualquer corrosão galvânica substancial ou significativa, quando existe uma etapa de enxágue subsequente empregando água.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
04/19/2016
RPI 2363
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
12/22/2015
RPI 2346
Alteração de dados cadastrais
#1.1
12/06/2011
RPI 2135
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