Concessão da patente
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 20/08/2019, observadas as condições legais
08/20/2019
RPI 2537
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Official data from INPI
DISPERSÃO AQUOSA, MÉTODO PARA A PREPARAÇÃO DE DISPERSÕES AQUOSAS, E, USO DE DISPERSÕES AQUOSAS
ConcedidaInvention PatentPCT · EP2009059051
Application data
Number
PI0915779Type
Invention Patent
Filing
07/15/2009
Publication
05/22/2018
PCT
EP2009059051 Progress at the INPI
- Filing07/15/09
- Publication05/22/18
- Examination
- Allowance07/30/19
- Grant08/20/19
- In force07/15/29
The patent was granted on 08/20/2019 and is in force until 07/15/2029. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:07/15/2029
Latest action published by the INPI: 08/20/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Lamberti Spa
IT
Inventors
G. C. (pessoa física)
IT
G. B. (pessoa física)
IT
I. K. (pessoa física)
IT
S. M. (pessoa física)
IT
Technical data
IPC Classification
Priority claims
IT
VA2008A000046 · 08/08/2008
Abstract
DISPERSÃO AQUOSA, MÃTODO PARA A PREPARAÃÃO DE DISPERSÃES AQUOSAS, E, USO DE DISPERSÃES AQUOSAS.Dispersões aquosas contendo poliuretanos aniônicos são preparados através da reação de um prepolÃmero A), obtido de di-isocianatos alifáticos ou cicloalifáticos, politetrametileno glicol e um ou mais polióis aniônicos ou potencialmente aniônicos, com um extensor de cadeia B) que é um sal de sulfonato de diamina; a dispersão tem um tamanho médio de partÃcula acima de 600 nm e produz filmes com opacidade elevada e toque macio, que são úteis para o revestimento de couro, tecidos, papel, papelão, plástico, madeira e metais.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Deferimento
#9.1
07/30/2019
RPI 2534
6.20
09/11/2018
RPI 2488
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
06/05/2018
RPI 2474
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
05/22/2018
RPI 2472
Alteração de dados cadastrais
#1.1
09/06/2011
RPI 2122
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