Application data
Number
PI0822520Type
Filing
Publication
PCT
EP2008001967 The patent was granted on 05/21/2019 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 05/26/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Alytus Corporation S.A.
UY
Inventors
R. B. (pessoa física)
AR
IPC Classification
Priority claims
EP
PCTEP2008001967 · 03/12/2008
Abstract
SISTEMA DE PLASMASistema e técnica para deposição quÃmica a vapor assistida por plasma (PECVO) em que superfÃcies selecionadas de substratos tubulares podem ser tratadas pela deposição de filmes finos de um material desejado, em que um dos eletrodos empregados no sistema de plasma é formado pelo substrato ou peça, sem a necessidade de reatores de plasma volumosos.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2870 de 06-01-2026 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
05/26/2026
RPI 2890
#21.6
Referente à 18ª anuidade.
01/06/2026
RPI 2870
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 21/05/2019, observadas as condições legais
05/21/2019
RPI 2524
#9.1
04/30/2019
RPI 2521
#6.6.1
02/05/2019
RPI 2509
01/02/2019
RPI 2504
#1.3.1
Foi retificada a publicação 1.3 da RPI 2319 de 16/06/2015 em relação ao item (30) e [72] da mesma.
08/04/2015
RPI 2326
#1.3
06/16/2015
RPI 2319
#1.1
08/09/2011
RPI 2118
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