Concessão da patente
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 08/10/2019, observadas as condições legais
10/08/2019
RPI 2544
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Official data from INPI
VÁLVULA DE EXPANSÃO
ConcedidaInvention PatentPCT · DK2008000402
Application data
Number
PI0820521Type
Invention Patent
Filing
11/12/2008
Publication
06/16/2015
PCT
DK2008000402 Progress at the INPI
- Filing11/12/08
- Publication06/16/15
- Examination
- Allowance08/27/19
- Grant10/08/19
- In force11/12/28
The patent was granted on 10/08/2019 and is in force until 11/12/2028. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:11/12/2028
Latest action published by the INPI: 10/08/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Danfoss A/S
DK
Inventors
A. V. (pessoa física)
DK
B. T. (pessoa física)
DK
J. S. (pessoa física)
DK
K. N. (pessoa física)
DK
Technical data
IPC Classification
Priority claims
DK
2007/01606 · 11/13/2007
Abstract
VÃLVULA DE EXPANSÃO.A presente invenção refere-se a uma válvula de expansão térmica (1) para um sistema de refrigeração compreendendo um elemento operativo (9) com um diafragma (15) fixado entre uma placa de cobertura (12) e um anel de cobertura (10). O diafragma é um múltiplo diafragma constando de um ou mais diafragmais individuais (16, 17). Isto torna o múltiplo diafragma mais flexÃvel que um único diafragma e prolonga a vida útil do diafragma; Os diafragmas individuais são separados por uma camada antifricção para proteção contra ruptura, a camada antifricção pode ser de graxa ou óleo interposta entre os diafragmas individuais ou a mesma pode ser uma camada de revestimento sobre o diafragma.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Deferimento
#9.1
08/27/2019
RPI 2538
6.20
03/26/2019
RPI 2516
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
01/22/2019
RPI 2507
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
06/16/2015
RPI 2319
Alteração de dados cadastrais
#1.1
08/23/2011
RPI 2120
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