Application data
Number
PI0615675Type
Filing
Publication
PCT
EP2006066180 The patent was granted on 06/02/2015 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 10/24/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
SOLVAY
BE
Inventors
O. W. (pessoa física)
DE
W. D. (pessoa física)
DE
IPC Classification
Priority claims
EP
05108331.9 · 09/12/2005
Abstract
SPLUÇÃO AQUODA PARA ESTERILIZAÇÃO QUÍMICA DE MATERIAIS PARA ACONDICIONAMENTO, E, PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO E USO DA MESMA. Solução aquosa adequada para a esterização química de materiais para acondicionamento, processo para a sua preparação e o seu uso. Solução aquosa adequeda para a esterização química de materiaos para acondicionamento, composta de peróxido de hidrogênio e pelo menos uma estabilizante compatível com alimentos. Esta solução, mas sem o estabilizante, tem um teor máximo fosferoso expresso como PO~ 4~ ^ S^- de 10 mg/kg, e apresenta um resíduo seco a 150 C. no máximo, de 10 mg/kg. A mesma solução pode ser utilizada como um líquido de banho de imersão em processo para acondicionamento asséptico em banho de imersão e também como líquido de aspersão em processos para acondicionamento asséptico por aspersão.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2739 de 04-07-2023 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
10/24/2023
RPI 2755
#21.6
Referente à 17ª anuidade.
07/04/2023
RPI 2739
#16.1
06/02/2015
RPI 2317
#9.1
01/13/2015
RPI 2297
#7.1
07/22/2014
RPI 2272
#1.3
12/18/2012
RPI 2189
Solicita-se a regularização da procuração, uma vez que baseado no artigo 216 § 1° da LPI, o documento de procuração deve ser apresentado no original, traslado ou fotocópia autenticada.
03/06/2012
RPI 2148
#1.1
08/16/2011
RPI 2119
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