Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2261 de 06/05/2014.
09/02/2014
RPI 2278
Application data
Number
PI0614048Type
Filing
Publication
PCT
JP2006313363 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
JP
Inventors
K. S. (pessoa física)
JP
T. Y. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
2005-189454 · 06/29/2005
Abstract
MÉTODO PARA PRODUÇÃO DE SILÍCIO DE PUREZA ELEVADA. A presente invenção fornece um método para produção de silício de pureza elevada. O método para produção de silício de pureza elevada compreende uma etapa de redução do sílicio halogenado representado pela seguinte fórmula (1) com alumínio, em que o alumínio usado como um redutor tem uma pureza de não menos do que 99,9% em peso, em que n é um número inteiro de O a 3, x é pelo menos um halogénio selecionado do grupo consistindo em F, Cl, Br e 1; e a pureza do alumínio é o equilíbrio obtido deduzindo-se o% total em peso de ferro, cobre, gálio, titânio, níquel, sódio, magnésio e zinco contido no alumínio de 100% em peso.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2261 de 06/05/2014.
09/02/2014
RPI 2278
#8.6
Referente à 8ª anuidade.
05/06/2014
RPI 2261
#1.3
03/09/2011
RPI 2096
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