Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2211 de 21/05/2013.
02/11/2014
RPI 2249
Application data
Number
PI0611129Type
Filing
Publication
PCT
US2006016134 Patent grant document available
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Applicants
VIANCE, LLC
US
Inventors
A. P. (pessoa física)
US
A. Z. (pessoa física)
US
F. C. (pessoa física)
US
K. A. (pessoa física)
US
L. J. (pessoa física)
US
P. W. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
11/121632 · 05/04/2005
Abstract
COMPOSIÇÃO, MÉTODO DE TRATAMENTO DE MADEIRA, E, MADEIRA TRATADA. Uma composição é descrita compreendendo um composto de amônio quaternário de cadeia longa e um agente ativo de conservação de madeira ou uma mistura dos mesmos, O composto de amônio quaternário de cadeia longa inclui pelo menos uma porção alquila tendo de 16 a 50 átomos de carbono, não substituida ou substituida com um ou mais átomos de N, O, S ou halogênio. Um método de tratamento de madeira é descrito, compreendendo impregnar a madeira com a composição acima em uma quantidade eficaz para reduzir a perda de ingrediente ativo de conservação na madeira tratada ou para aumentar a resistência da madeira à deterioração. A madeira tratada e os produtos de madeira são descritos compreendendo madeira impregnada com a composição acima, incluindo um nível de tratamento do composto de amônio quaternário de cadeia longa eficaz para reduzir a perda de ingrediente ativo de conservação na madeira tratada ou para aumentar a resistência da madeira à deterioração.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2211 de 21/05/2013.
02/11/2014
RPI 2249
#8.6
Referente 7a. anuidade(s).
05/21/2013
RPI 2211
#25.7
Sede alterada conforme solicitado na Petição nº 020090004940/RJ de 19/01/2009.
01/18/2011
RPI 2089
#1.3
11/09/2010
RPI 2079
Solicita-se a regularização da procuração, uma vez que baseado no artigo 216 § 1° da LPI, o documento de procuração deve ser apresentado no original, traslado ou fotocópia autenticada.
08/03/2010
RPI 2065
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