Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2161 de 05/06/2012.
10/23/2012
RPI 2181
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Official data from INPI
MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE SILÍCIO DE ALTA PUREZA
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · JP2006304194 Official document available
Application data
Number
PI0609259Type
Invention Patent
Filing
02/28/2006
Publication
03/09/2010
PCT
JP2006304194 Patent grant document available
We have the complete official document for this filing, as published by INPI.
Access the documentProgress at the INPI
- Filing02/28/06
- Publication03/09/10
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 10/23/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Nippon Steel Materials CO., LTD
JP
Inventors
J. K. (pessoa física)
JP
K. O. (pessoa física)
JP
M. O. (pessoa física)
JP
N. I. (pessoa física)
JP
Technical data
IPC Classification
Priority claims
JP
2005-062557 · 03/07/2005
Abstract
MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE SÍLICIO DE ALTA PUREZA. A invenção refere-se a um método para a produção de uma grande quantidade de silício econômico de alta pureza útil em uma bateria solar. É revelado um método para a produção do silício de alta pureza pela remoção do boro do silício pela oxidação incluindo começar uma reação de oxidação entre um agente oxidante e o silício fundido, e resfriar pelo menos parte do agente oxidante durante a reação.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente às 4ª, 5ª e 6ª anuidades.
06/05/2012
RPI 2161
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
03/09/2010
RPI 2044
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