EQUIPAMENTO E MÉTODO PARA APLICAR UMA CAMADA FINA UNIFORME DE LÍQUIDO EM SUBSTRATOS

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Abstract

EQUIPAMENTO E METODO PARA APLICAR UMA CAMADA FINA UNIFORME DE LÍQUIDO EM SUBSTRATOS. A presente invenção refere-se a um equipamento (10) para aplicar uma camada fina uniforme de líquido, especialmente de ácido fosfórico, em células de sílicio (12) para a técnica fotovoltaica, com uma câmara de processo (14) que possuí uma bacia de líquido (16) e um dispositivo de som de alta freqUência (11) que transforma o líquido em uma névoa de líquido (15) e dotado com um equipamento de transporte (13) para as células de silício (12), disposto abaixo de um poço sob pressão (25) da câmara de processo (14) . De acordo com a presente invenção, tal equipamento (10) permite uma aplicação mais homogênea de líquido sobre as células de sílicio no que se refere tanto à superfície e à quantidade aplicada, isto pode ser alcançado pelo fato de que o poço sob pressão (25) para a névoa de líquido da câmara de processo (14) passa por um adelgaçamento do seu diâmetro livre em direção ao equipamento de transporte 13, desembocando em uma disposição de poço de passagem (40) que cobre o equipamento de transporte (13) para os substratos de sílicio (12) e que os diâmetros livres da extremidade da abertura do poço sob pressão (25) para névoa de liquido (25) e da disposição de poço de passagem (40) são mutuamente adaptados, de preferência, são essencialmente idênticos.