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Official data from INPI

COMPOSTOS, PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE COMPOSTOS QUÍMICOS E COMPOSIÇÃO FARMACÊUTICA

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · FR2006000469

Application data

Number

PI0607567

Type

Invention Patent

Filing

03/02/2006

Publication

10/18/2011

PCT

FR2006000469

Progress at the INPI

  1. Filing03/02/06
  2. Publication10/18/11
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/23/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

P. M. (pessoa física)

FR

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Inventors

A. D. (pessoa física)

FR

D. J. (pessoa física)

FR

E. D. (pessoa física)

FR

I. L. (pessoa física)

FR

J. P. (pessoa física)

FR

Y. R. (pessoa física)

FR

Technical data

Priority claims

FR

0502152 · 03/03/2005

Abstract

COMPOSTOS, PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE COMPOSTOS QUÍMICOS E COMPOSIÇÃO FARMACÊUTICA. A invenção refere-se a derivados da 3,5-dioxo-(2H,4H)-l,2,4- triazina de fórmula geral I, em que -R~1~ e R~2~ podem ser idênticos ou diferentes e representam um radical alquila ou alquenila, linear ou ramificado, em C~1~-C~7~, um radical alquila em C~1~-C~6~ substituído por grupamentos tais como trifluorometila, cicloalquila em C~5~-C~6~ nitrila, alcoxicarbonilvinila em C~1~-C~4~, hidroxicarbonilvinila, alcoxicarbonila em C~1~-C~4~, carboxilato, benzilóxi ou fenila (para os quais o núcleo fenila é eventualmente substituído por um ou mais grupamentos como alquila em C~1~-C~4~, alcóxi em C~1~-C~4~, nitro, halogênio ou trifluorometila), -YR~3~ representa oxigênio ou NR~3~ em que R~3~ representa hidrogênio, um radical alquila ou alquenila, linear ou ramificado em C~1~-C~7~, um radical alquila em C~6~ substituído por grupamentos como trifluorometila ou fenila (para os quais o núcleo fenila é eventualmente substituído por um ou mais grupamentos como alquila em C~1~-C~4~, alcóxi em C~1~-C~4~, nitro, halogênio ou trifluorometila),- Z representa um átomo de oxigênio ou um átomo de carbono podendo ser ligado em posições orto, meta ou para do grupamento fenila de fórmula I, -n pode ser igual de O a 5 quando Z=C ou 2 a 4 quando Z=O, -X representa oxigênio ou enxofre,-R~4~, R~5~, R~6~, R~7~ e R~8~ representam hidrogênio ou flúor, -R~9~, R~10~e R~11~ representam hidrogênio ou um grupamento alquila, linear ou ramificado, em C~1~-C~5~, assim como os sais de adição com bases farmaceuticamente aceitáveis e os diferentes enantiômeros de compostos possuindo carbonos assimétricos, assim como suas misturas em todas as proporções, incluindo notadamente as misturas racêmicas.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2161 de 05/06/2012.

10/23/2012

RPI 2181

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 5ª e 6ª anuidades.

06/05/2012

RPI 2161

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

10/18/2011

RPI 2128

Alteração de dados cadastrais

#1.1

08/16/2011

RPI 2119

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