Application data
Number
PI0606346Type
Filing
Publication
PCT
US2006003086 The patent was granted on 11/17/2015 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/13/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Lubrizol Advanced Materials, Inc.
US
Nalco Company
US
Inventors
D. P. (pessoa física)
US
J. C. (pessoa física)
US
L. B. (pessoa física)
US
W. C. (pessoa física)
US
Y. H. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
11/044,383 · 01/27/2005
Abstract
COMPOSIÇÃO COSMETICAMENTE ACEITÁVEL E MÉTODO DE TRATAMENTO DE UM SUBSTRATO SELECIONADO ENTRE O CABELO, A PELE OU AS UNHAS. Trata-se de uma composição cosmeticamente aceitável que compreende uma ou mais poliacrilamidas hidrofobicamente modificadas preparadas mediante a incorporação de porções hidrofóbicas em um polímero composto de acrilamida, um ou mais monômeros catiônicos e opcionalmente um ou mais monômeros aniônicos. A composição pode ser incorporada em produtos para o tratamento do cabelo, da pele e das unhas e também em produtos domésticos tais como produtos de limpeza domésticos e detergentes de lavanderia.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2446 de 21-11-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
03/13/2018
RPI 2462
#21.6
Referente à 12ª anuidade.
11/21/2017
RPI 2446
#16.1
11/17/2015
RPI 2341
#9.1
10/13/2015
RPI 2336
#7.1
05/19/2015
RPI 2315
#15.11
As Classificações Anteriores eram: A61K 6/00 , A61K 9/00 , A61K 8/02
01/06/2015
RPI 2296
#7.1
01/06/2015
RPI 2296
Referente ao despacho publicado na RPI 2258 de 01/04/2014.
04/22/2014
RPI 2259
#8.6
Referente à 5ª anuidade. Pagar restauração.
04/01/2014
RPI 2256
#25.1
08/20/2013
RPI 2224
#6.6
04/17/2012
RPI 2154
#1.3
06/16/2009
RPI 2006
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