Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2158 de 15/05/2012.
10/09/2012
RPI 2179
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Official data from INPI
PROCESSO E DISPOSITIVO PARA DECAPAGEM DE METAIS
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · EP2005007480 Official document available
Application data
Number
PI0513474Type
Invention Patent
Filing
07/11/2005
Publication
11/16/2011
PCT
EP2005007480 Patent grant document available
We have the complete official document for this filing, as published by INPI.
Access the documentProgress at the INPI
- Filing07/11/05
- Publication11/16/11
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 10/09/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Siemens Vai Metals Technologies GMBH & CO
AT
Inventors
A. S. (pessoa física)
AT
J. H. (pessoa física)
AT
Technical data
IPC Classification
Priority claims
AT
A 1218/2004 · 07/19/2004
Abstract
PROCESSO E DISPOSITIVO PARA DECAPAGEM DE METAIS. A invenção refere-se a um processo e dispositivo (13) para decapagem eletrolítica de produtos planos (2)metálicos, especialmente tiras de aço nobre e/ou de aço C, caracterizado pelo fato de que é empregado ao menos um par de eletrodos contrapostos com ao menos um eletrodo de diamante e/ou ao menos um eletrodo de chumbo/estanho, p.ex. um eletrodo de chumbo93/estanho7 (15) . A propriedade especial dos eletrodos de diamante ou eletrodos de chumbo/estanho é a forma da decomposição da água. Enquanto que na eletrólise usualmente água é dissociada em hidrogênio e oxigênio, o eletrodo de diamante e/ou eletrodo de chumbo/estanho fornece uma área de trabalho, em que, em lugar de oxigênio, são formados ou ozônio ou radicais hidroxila altamente reativos. Assim, os tempos de decapagem podem ser nitidamente reduzidos frente à decapagem química convencional, e também frente à decapagem eletrolítica convencional.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente às 5ª, 6ª e 7ª anuidades.
05/15/2012
RPI 2158
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
11/16/2011
RPI 2132
6.8
Exigência publicada na RPI 2071 de 14/09/2010 anulada por ter sido indevida.
10/11/2011
RPI 2127
6.7
Esclareça (comprove) divergência entre nome de depositante constante do pedido de fase nacional (SIEMENS VAI METALS TECHNOLOGIES GMBH & CO) e do IB 306 anexado (VOEST-ALPINE INDUSTRIEANLAGENBAU GMBH & CO).
09/14/2010
RPI 2071
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