Official data from INPI

REAÇÃO DE CONDENSAÇÃO DO SILICONE

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US2004015848

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Application data

Number

PI0418817

Type

Invention Patent

Filing

05/20/2004

Publication

11/13/2007

PCT

US2004015848

View on INPI

Progress at the INPI

Filing05/20/04
Publication11/13/07
Abandoned
Allowance
Grant
In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 02/14/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

General Electric Company

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Inventors

J. C. (pessoa física)

S. R. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

C08G 77/08

Abstract

Reação de condensação do silicone. É aqui descrita e reivindicada uma nova reação de condensação do silicone, prevendo a condensação entre um alcoxi silano ou siloxano e um organo-hidrosilano ou siloxano e um catalisador.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2082 de 30/11/2010.

02/14/2012

RPI 2145

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

referente a 6ª anuidade

11/30/2010

RPI 2082

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

11/13/2007

RPI 1923

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