Application data
Number
PI0417477Type
Filing
Publication
PCT
US2004018876 The patent was granted on 04/03/2018 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 07/23/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
AVENT, INC.
US
KIMBERLY-CLARK WORLDWIDE, INC.
US
O&M HALYARD INTERNATIONAL UNLIMITED COMPANY
IE
Inventors
A. Y. (pessoa física)
US
E. S. (pessoa física)
US
J. B. (pessoa física)
US
J. M. (pessoa física)
US
R. Q. (pessoa física)
US
Priority claims
US
10/739,531 · 12/18/2003
Abstract
MÁSCARA FACIAL E MÉTODO PARA A FORMAÇÃO DA MESMA Uma composição de revestimento que é incorporada em uma mascara facial para reduzir a formação de névoa e ofuscação é proporcionada. Por exemplo, em sua modalidade, a máscara facial contém um ou visor formado de um substrato transparente tendo pelo menos uma superfície aplicada com a composição de revestimento da presente invenção. Os presentes inventores descobriram, inesperadamente, que um ou mais polímeros orgânicos solúveis em água, tal como etil hidróxietilcelulose, podem ser utilizados como um componente principal da composição de revestimento para reduzir a formação de névoa e ofuscação de uma maneira simples, ainda que eficaz.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2778 de 02-04-2024 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
07/23/2024
RPI 2794
#21.6
Referente à 20ª anuidade.
04/02/2024
RPI 2778
#25.1
01/29/2019
RPI 2508
#16.1
04/03/2018
RPI 2465
#9.1
02/14/2018
RPI 2458
#25.1
04/18/2017
RPI 2415
#7.1
01/26/2016
RPI 2351
#6.6
08/18/2015
RPI 2328
#1.3
05/08/2007
RPI 1896
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