MÉTODO E DISPOSITIVO PARA O REVESTIMENTO DE UM SUBSTRATO.

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Abstract

"MÉTODO E DISPOSITIVO PARA O REVESTIMENTO DE UM SUBSTRATO". A presente invenção refere-se a um método para o revestimento de um substrato com uma camada de um material, tal como um metal, no qual uma quantidade de material eletricamente condutivo é vaporizada em um espaço com uma baixa pressão de fundo, e uma energia é suprida para o material a ser vaporizado a fim de vaporizar este material. De acordo com a presente invenção, o material que deve ser vaporizado, enquanto é vaporizado, se mantém flutuante, sem suporte, no espaço e é encerrado em um campo eletromagnético alternado, o campo eletromagnético alternado sendo gerado com a ajuda de uma corrente alternada de alta freqüência. A presente invenção também se refere a um dispositivo para o revestimento de um substrato e a um substrato.