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PROCESSO PARA A SÍNTESE INDUSTRIAL DE TETRAÉSTERES DE ÁCIDO 5-[BIS (CARBOXIMETIL)AMINO]-3-CARBOXIMETIL-4-CIANO-2-TIOFENOCARBOXÍLICO E APLICAÇÃO À SINTESE DE SAIS BIVALENTES DE ÁCIDO RANÉLICO E SEUS HIDRATOS

ArquivadaInvention Patent

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Application data

Number

PI0304203

Type

Invention Patent

Filing

09/23/2003

Publication

08/24/2004

View on INPI

Progress at the INPI

Filing09/23/03
Publication08/24/04
Abandoned
Allowance
Grant
In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/31/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

L. S. (pessoa física)

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Inventors

J. L. (pessoa física)

L. V. (pessoa física)

P. L. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

C07D 333/38

Priority claims

02/11765 · 09/24/2002

Abstract

"PROCESSO PARA A SÍNTESE INDUSTRIAL DE TETRAÉSTERES DE ÁCIDO 5-[BIS (CARBOXIMETIL)AMINO]-3-CARBOXIMETIL-4-CIANO-2-TIOFENOCARBOXÍLICO E APLICAÇÃO À SINTESE DE SAIS BIVALENTES DE ÁCIDO RANÉLICO E SEUS HIDRATOS". Processo para a síntese industrial de compostos da fórmula (I): onde R e R , que são os mesmos ou diferentes, representam, cada um, um grupo (C~ 1~-C~ 6~)alquila linear ou ramificada. Aplicação à síntese de sais bivalentes de ácido ranélico e, mais especificamente ao ranelato de estrôncio e seus hidratos.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

10/31/2017

RPI 2443

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

07/11/2017

RPI 2427

Não anuência — art. 229 da LPI

#7.5

NOTIFICAÇÃO DE ANUÊNCIA RELACIONADA COM O ART 229 DA LPI

05/23/2017

RPI 2420

Ciência (anuência ANVISA - art. 229-C)

#7.4

04/12/2016

RPI 2362

Pedido suspenso — exigência de documentos

#6.6

03/22/2011

RPI 2098

6.7

Baseado no art. 216 § 1º da LPI, apresente cópia autenticada da procuração para que esta seja aceita.

08/31/2004

RPI 1756

Publicação do pedido de patente

#3.1

08/24/2004

RPI 1755

Pedido de patente depositado

#2.1

02/03/2004

RPI 1726

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