Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2116 de 26/07/2011.
11/16/2011
RPI 2132
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Official data from INPI
PREPARAÇÃO FARMACÊUTICA COM LIBERAÇÃO DE SUBSTÂNCIA ATIVAS RETARDADA, PROCESSO PARA PRODUÇÃO E USO DA MESMA
Arquivada/ExtintaInvention Patent
Application data
Number
PI0301708Type
Invention Patent
Filing
06/18/2003
Publication
08/24/2004
Progress at the INPI
- Filing06/18/03
- Publication08/24/04
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 11/16/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Heraeus Kulzer GMBH & CO. KG.
DE
Inventors
K. K. (pessoa física)
DE
M. S. (pessoa física)
DE
S. V. (pessoa física)
DE
Technical data
IPC Classification
Priority claims
DE
102 27 914.4 · 06/21/2002
Abstract
"PREPARAÇÃO FARMACÊUTICA COM LIBERAÇÃO DE SUBSTÂNCIA ATIVA RETARDADA, PROCESSO PARA PRODUÇÃO E USO DA MESMA". A invenção refere-se preparações farmacêuticas com liberação de substância ativa retardada, que consistem em misturas de teicoplanina em forma de pó e pelo menos uma forma de sal, em forma de pó, solúvel em água, da gentamicina, da clindamicina, da canamicina, da amicacina, da tobramicina, da vancomicina, da moxifloxacina e da ciprofloxacina e em um adjuvante inorgânico e/ou adjuvante orgânico. As preparações farmacêuticas são usadas na forma de comprimidos, corpos moldados, fios e granulados como implantes permanentes e temporários.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
referente a 7ª e 8ª anuidade(s)
07/26/2011
RPI 2116
Retificação de publicação
#3.8
Referente à RPI 1755 de 24/08/2004, quanto ao ítem (72).
03/08/2005
RPI 1783
Publicação do pedido de patente
#3.1
08/24/2004
RPI 1755
Pedido de patente depositado
#2.1
08/19/2003
RPI 1702
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