Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
11/20/2007
RPI 1924
Application data
Number
PI0211467Type
Filing
Publication
PCT
EP2002008329 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 07/26/2002 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
Aluminal Oberflächentechnik GMBH & CO. KG
DE
Inventors
H. V. (pessoa física)
NL
J. H. (pessoa física)
DE
IPC Classification
Priority claims
EP
01118392.8 · 07/28/2001
Abstract
"DISPOSITIVO PARA ELETRODEPOSIÇÃO DE ALUMÍNIO E/OU LIGAS DE ALUMÍNIO A PARTIR DE ELETRÓLITOS ORGANOMETÁLICOS". Um dispositivo para eletrodeposição de alumínio e/ou ligas de alumínio a partir de eletrólitos organometálicos que contêm complexos de alquilalumínio em materiais a ser revestidos, o dito dispositivo consistindo de uma armação de suporte com um descanso e mancais de transporte, pelo menos um tambor de deposição, e um ou mais braços de suporte para o tambor de deposição, caracterizado pelo fato de que a unidade de acionamento (3) fica arranjada em um alojamento hermético a gás encapsulado, o tambor de deposição (13) tem um tubo interno perfurado (15) arranjado ao longo do seu eixo geométrico longitudinal e abeto na sua lateral, de maneira tal que, durante a colocação do dispositivo em um recipiente de eletrólito, as aberturas laterais fiquem arranjadas diretamente opostas à alimentação de eletrólito no recipiente de eletrólito, o tambor de deposição (13) consiste de um material que é estável tanto em eletrólitos aquosos como organometálicos a temperaturas de até 110 C.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
11/20/2007
RPI 1924
#11.1
02/06/2007
RPI 1883
#1.3
08/17/2004
RPI 1754
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