Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2029 de 24/11/2009.
03/09/2011
RPI 2096
Application data
Number
PI0204587Type
Filing
Publication
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/09/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
C. M. (pessoa física)
SP, BR
Inventors
S. T. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
"PROCESSO DE PRODUÇÃO DE PÓ DE NIÓBIO E/OU DE TÂNTALO DE ELEVADA ÁREA SUPERFICIAL". A presente invenção refere-se a um processo de produção de pó de nióbio e/ou de tântalo de elevada pureza, elevada superfície específica, teores de oxigênio e nitrogênio controlados, e morfologia apropriada para ser usada na fabricação de capacitores, caracterizado por uma única etapa de redução de uma camada controlada de óxido de nióbio e/ou de tântalo (Nb~ x~O~ Y~, e/ou Ta~ x~,O~ y~, onde x = 1 a 2 e y = 1 a 5) propositalmente formada sobre partículas de nióbio e/ou de tântalo metálico e/ou seus hidretos de pureza adequada, por metais e/ou hidretos de metais alcalinos ou alcalino terrosos em um banho de sais fundidos seguido de uma etapa de dissolução do sal em uma solução aquosa para recuperação do pó de nióbio e/ou de tântalo. Estas partículas produzidas com o presente processo são de tamanho reduzido, têm elevada área superficial e morfologia esponjosa, sendo adequadas para a produção de capacitores.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2029 de 24/11/2009.
03/09/2011
RPI 2096
#8.6
Referente a 6ª e 7ª anuidade(s).
11/24/2009
RPI 2029
#7.1
03/03/2009
RPI 1991
#3.1
06/29/2004
RPI 1747
#2.1
12/17/2002
RPI 1667
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