Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
05/18/2010
RPI 2054
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Official data from INPI
SUBSTRATO COM UMA SUPERFÍCIE ULTRAFÓBICA DE DIFUSÃO DE LUZ REDUZIDA E UM PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DO MESMO
ArquivadaInvention PatentPCT · EP2001005942
Application data
Number
PI0111185Type
Invention Patent
Filing
05/23/2001
Publication
02/25/2004
PCT
EP2001005942 Progress at the INPI
- Filing05/23/01
- Publication02/25/04
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 05/18/2010. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Sunyx Surface Nanotechnologies GMBH.
DE
Inventors
A. D. (pessoa física)
DE
G. N. (pessoa física)
DE
K. R. (pessoa física)
DE
Technical data
IPC Classification
Priority claims
DE
100 26 299.6 · 05/26/2000
Abstract
"SUBSTRATO COM UMA SUPERFÍCIE ULTRAFÓBICA DE DIFUSÃO DE LUZ REDUZIDA E UM PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DO MESMO". A invenção refere-se a um substrato com uma superfície ultrafóbica de difusão de luz reduzida, a um processo para a produção do dito substrato e ao uso dele. O substrato com uma superfície ultrafóbica de difusão de luz reduzida tem uma perda de difusão total 7%, de preferência, 3% e, especialmente, 1% e um ângulo de contato em relação à água de 140 , de preferência, 150 .
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
11/10/2009
RPI 2027
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
02/25/2004
RPI 1729
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