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Official data from INPI

PROCESSO DE OBTENÇÃO E PRODUTO FINAL DE COMPOSTO EM BASE DE PARAFINA

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0104421

Type

Invention Patent

Filing

09/19/2001

Publication

08/05/2003

Progress at the INPI

  1. Filing09/19/01
  2. Publication08/05/03
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/07/2009. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

R. C. (pessoa física)

PR, BR

Inventors

R. C. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"PROCESSO DE OBTENÇÃO E PRODUTO FINAL DE COMPOSTO EM BASE DE PARAFINA". Descreve-se a presente patente como um processo de obtenção e produto final de composto em base de parafina que, de acordo com as suas características, possui como princípio uma maior resistência a exposição de calor, com vistas a uma melhor amplitude do seu campo de utilização, tendo como base a formação de um composto de composição geral diferenciada. O presente processo e composto são formados por um conjunto de soluções minerais e químicas incorporadas, compondo um composto com composição diferenciada e características próprias, que forma um produto final de elevada resistência e durabilidade obtido através de um processo de obtenção de sua massa que é baseado na mistura direta e em proporções definidas de parafina macrocristalina e microcristalina, vaselina e, de acordo com as necessidades, de corantes e/ou essências variadas, obtendo-se um excelente produto final para as mais diversas utilizações.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho publicado na RPI 1963 de 19.08.2008.

04/07/2009

RPI 1996

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 4ª, 5ª, 6ª e 7ª anuidades.

08/19/2008

RPI 1963

Publicação do pedido de patente

#3.1

08/05/2003

RPI 1700

Pedido de patente depositado

#2.1

12/11/2001

RPI 1614

Patent monitoring

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