Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
08/10/2004
RPI 1753
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Official data from INPI
ADITIVO ANTI-FORMAÇÃO DE MANCHA E COMPOSIÇÃO DE POLIORGANOSSILOXANO CURÁVEL A TEMPERATURA AMBIENTE
ArquivadaInvention Patent
Application data
Number
PI0007343Type
Invention Patent
Filing
02/28/2000
Publication
11/27/2001
Progress at the INPI
- Filing02/28/00
- Publication11/27/01
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 02/28/2000 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 08/10/2004. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Dow Corning Toray Silicone Company, LTD.
JP
Inventors
S. H. (pessoa física)
JP
T. O. (pessoa física)
JP
W. N. (pessoa física)
JP
Technical data
IPC Classification
Priority claims
JP
11-051014 · 02/26/1999
Abstract
Patente de Invenção: "ADITIVO ANTIFORMAÇÃO DE MANCHA E COMPOSIÇÃO DE POLIORGANOSSILOXANO CURÁVEL EM TEMPERATURA AMBIENTE". Um aditivo antiformação de mancha que compreende um composto de organossilício modificado com éster de ácido alifático insaturado superior que é produzido por realização de uma reação de adição entre (a) um éster de ácido alifático insaturado superior que contém mais do que uma ligação alifaticamente insaturada ligada em cada molécula e (b) um composto de organossilício que contém pelo menos 1 átomo de hidrogênio ligado a silício em cada molécula com as ligações alifaticamente insaturadas no componente (a) presentes em excesso molar no hidrogênio ligado a silício no componente (b). O aditivo pode ser usado em 0,01 a 50 por cento em peso em uma composição de poliorganossiloxano que cura em temperatura ambiente por uma reação de condensação.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
12/16/2003
RPI 1719
Publicação do pedido de patente
#3.1
11/27/2001
RPI 1612
Pedido de patente depositado
#2.1
06/26/2001
RPI 1590
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