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Official data from INPI

COMPOSIÇÃO SENSÍVEL À RADIAÇÃO, USO DE UM COMPOSTO DE SAL DE DIARILIODÔNIO, MÉTODO PARA POLIMERIZAÇÃO, SUBSTRATO REVESTIDO, MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE IMAGENS, FOTORRESISTOR E COMPOSTO DE SAL DE DIARILIODÔNIO.

ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0006227

Type

Invention Patent

Filing

12/21/2000

Publication

07/30/2002

Progress at the INPI

  1. Filing12/21/00
  2. Publication07/30/02
  3. Examination
  4. Allowance06/16/09
  5. Grant11/17/09
  6. Terminated04/13/21

The patent was granted on 11/17/2009 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/13/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.

CH

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Inventors

H. Y. (pessoa física)

JP

J. B. (pessoa física)

CH

J. W. (pessoa física)

CH

R. S. (pessoa física)

DE

S. I. (pessoa física)

CH

T. A. (pessoa física)

JP

Technical data

IPC Classification

Priority claims

CH

2343/99 · 12/21/1999

Abstract

"SAIS DE IODÔNIO COMO DOADORES ÁCIDOS LATENTES". Composições sensíveis à radiação compreendendo (a1) um composto polimerizável ou reticulável cationicamente ou cataliticamente com ácido, ou (a2) um composto que aumente a sua solubilidade em uma solução de desenvolvimento sob a ação do ácido; e b) pelo menos um sal de diariliodônio da fórmula I (I), onde X é C~ 3~-C~ 20~ alquila ou C~ 3~-C~ 8~ cicloalquila ramificada; X~ 1~ é hidrogênio, C~ 1~-C~ 20~ alquila linear, C~ 3~-C~ 20~ alquila ou C~ 3~-C~ 8~ Cicloalquila ramificada; contanto que a soma dos átomos de carbono em X e X~ 1~ seja pelo menos 4; Y é C~ 1~-C~ 10~ alquila linear, C~ 3~-C~ 20~ alquila ou C~ 3~-C~ 8~ cicloalquila ramificada; A^ -^ é um ânion não-nucleofílico, selecionado do grupo (BF~ 4~)^ -^, (SbF~ 6~)^ -^, (PF~ 6~)^ -^, (B(C~ 6~F~ 5~))~ 4~^ -^, C~ 1~-C~ 20~ alquilsulfonato, C~ 2~-C~ 20~ haloalquilsulfonato, C~ 6~-C~ 10~ arilsulfonato não-substituído, canforsulfonato, e C~ 6~-C~ 10~ arilsulfonato substituído por halogênio, NO~ 2~, C~ 1~-C~ 12~ alquila, C~ 1~-C~ 12~ halo-alquila, C~ 1~-C~ 12~ alcóxi ou por COOR~ 1~, e R~ 1~ é C~ 1~-C~ 20~ alquila, fenila, benzila; ou fenila mono ou polissubstituída por C~ 1~-C~ 12~ alquila, C~ 1~-C~ 12 alcóxi ou por halogênio; contanto que os dois anéis fenila no átomo de iodo não sejam substituídos identicamente, tenham alta sensibilidade, alta estabilidade em armazenamento, boa solubilidade e uma baixa tendência a cristalizar.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2607 de 22-12-2020 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

04/13/2021

RPI 2623

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 11ª anuidade.

12/22/2020

RPI 2607

24.6

Anulada a publicação código 24.8 na RPI nº 2259 de 22/04/2014 por ter sido indevida.

12/08/2020

RPI 2605

24.8

04/22/2014

RPI 2259

24.3

Referente à 11ª e 12ª anuidade(s), conforme art. 87 da LPI 9.279.

09/18/2012

RPI 2176

Concessão da patente

#16.1

11/17/2009

RPI 2028

Deferimento

#9.1

06/16/2009

RPI 2006

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

10/28/2008

RPI 1973

Publicação do pedido de patente

#3.1

07/30/2002

RPI 1647

Republicação do depósito

#2.7

Referente a RPI 1569 de 30/01/01, quanto ao ítem (71)

01/22/2002

RPI 1620

Pedido de patente depositado

#2.1

01/30/2001

RPI 1569

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