COMPOSIÇÃO DE RESINA FOTOSSENSÍVEL

IPC Classification

Priority claims

Abstract

Patente de Invenção: "COMPOSIÇÃO DE RESINA FOTOSSENSÍVEL". A invenção refere-se a composições fotossensíveis que compreendem (A) um composto álcali solúvel; (B) pelo menos um composto de fórmula I ou II onde R~ 1~ entre outros é C~ 4~-C~ 9~ cicloalcanoíla, C~ 3~-C~ 12~ alquenoíla, ou benzoíla que é não- substituída ou substituída; A~ 1~ é C~ 6~-C~ 20~ arila ou C~ 6~-C~ 20~ ariloíla cada uma das quais é não-substituída ou substituída; x é 2 ou 3; M~ 1~ quando x é 2, entre outros é um grupo fenileno ou naftaleno, cada um dos quais é opcionalmente substituído entre outros por OR~ 3~, SR~ 4~ ou NR~ 5~R~ 6~; ou M~ 1~, quando x é 3, é um grupo trivalente, opcionalmente substituído; R~ 3~ é por exemplo hidrogênio ou C~ 1~-C~ 12~ alquila; C~ 2~-C~ 6~ alquila que é por exemplo substituída por -OH, -SH, -CN, C~ 3~-C~ 6~ alquenóxi, ou -OCH~ 2~CH~ 2~CN; R~ 4~ é por exemplo hidrogênio, C~ 1~-C~ 12~ alquila, C~ 3~-C~ 12~ alquenila, cicloexila, ou fenila que é não-substituída ou substituída; R5 e R6 independentemente um do outro entre outros são hidrogênio, C~ 1~-C~ 12~ alquila, C~ 2~-C~ 4~ hidroxialquila, C~ 2~-C~ 10~ alcoxialquila, C~ 3~-C~ 5~ alquenila, C~ 3~-C~ 8~ cicloalquila, fenil-C~ 1~-C~ 3~ alquila, C~ 1~-C~ 4~ alcanoíla, C~ 3~-C~ 6~ alquenoíla, benzoíla ou fenila que é não-substituída ou substituída; e (C) um composto fotopolimerizável; exibem inesperadamente um bom desempenho, em particular, em tecnologia de fotorrevestimento.