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Official data from INPI

PROCESSO E EQUIPAMENTO PARA TRATAMENTO DE RESÍDUOS INDUSTRIAIS CONTENDO METAIS PESADOS

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI0004316

Type

Invention Patent

Filing

09/13/2000

Publication

04/16/2002

Progress at the INPI

  1. Filing09/13/00
  2. Publication04/16/02
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 09/13/2000 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 09/14/2004. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

F. A. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

F. A. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"PROCESSO E EQUIPAMENTO PARA TRATAMENTO DE RESÍDUOS INDUSTRIAIS CONTENDO METAIS PESADOS". onde o processo compreende as etapas de: alimentar em um forno resíduos industriais contendo metais pesados; aquecer e manter aquecido entre 1.300 e 2.100 C em uma atmosfera não oxidante os resíduos alimentados no forno, utilizando-se de um eletrodo de grafite vazado, injetando-se um gás de plasma como argônio, funcionando esse eletrodo vazado como uma tocha de plasma de arco transferido, liqüefazendo o material alimentado, e formando um banho líquido com duas fases, uma contendo ferro e a maior parte dos metais inicialmente presentes nos resíduos e a outra fase contendo compostos cerâmicos como sílica, óxido de cálcio e outros; retirar do forno os gases de processo, passando-os por uma câmara de combustão e em seguida por um adequado sistema de limpeza de gases antes de liberar os gases para a atmosfera; retirar as fases líquidas do forno e resfriá-las ao meio ambiente, gerando lingotes cerâmicos e férreos, ambos inertes e passíveis de serem reaproveitados na cadeia produtiva. O equipamento utilizado para a realização do processo é compreendido por um forno estático contendo um eletrodo de grafite vazado que funciona como uma tocha de arco transferido; estabelece-se um arco elétrico entre o eletrodo de grafite vazado e o material sendo processado para fornecer energia ao processo. Uma segunda tocha de plasma, de arco não transferido, é utilizada para liqüefazer eventual material sólido no forno, quando por exemplo do início de operação do processo ou quando de paradas por falta de energia elétrica ou outras causas.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

09/14/2004

RPI 1758

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

06/08/2004

RPI 1744

Publicação do pedido de patente

#3.1

04/16/2002

RPI 1632

Pedido de patente depositado

#2.1

11/28/2000

RPI 1560

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