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Official data from INPI

SISTEMA DE RADIAÇÃO UV TENDO MATERIAIS PARA ATENUAR SELETIVAMENTE A RADIAÇÃO.

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0003325

Type

Invention Patent

Filing

07/13/2000

Publication

03/13/2001

Progress at the INPI

  1. Filing07/13/00
  2. Publication03/13/01
  3. Examination
  4. Allowance06/14/11
  5. Grant01/10/12
  6. Expired07/06/21

The letters patent expired on 07/06/2021: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 07/06/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Johnson & Johnson

US

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Inventors

A. K. (pessoa física)

US

J. E. (pessoa física)

US

J. E. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

09/515,190 · 02/29/2000

US

60/143,607 · 07/13/1999

Abstract

Patente de Invenção: "SISTEMA DE RADIAÇÃO UV TENDO MATERIAIS PARA ATENUAR SELETIVAMENTE A RADIAÇÃO" . Esta invenção proporciona um sistema de radiação de alta energia, que produz radiação UV compreendendo um material seletivamente atenuante, que aumenta a razão de radiação desejada para indesejada, para reduzir o dano de radiação a um alvo por atenuação seletiva de pelo menos 30 por cento da radiação superior a 200 a 240 nm, que impinge no dito material atenuante e direciona mais do que 50 por cento da radiação de 240 nm e 280 nm, que impinge no dito material atenuante.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

Patente extinta em 14/07/2020

07/06/2021

RPI 2635

16.3

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 13/07/2000, observadas as condições legais. Patente concedida conforme ADI 5.529/DF, que determina a alteração do prazo de concessão

06/22/2021

RPI 2633

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 21ª anuidade.

05/18/2021

RPI 2628

Concessão da patente

#16.1

01/10/2012

RPI 2140

Deferimento

#9.1

06/14/2011

RPI 2110

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

10/19/2010

RPI 2076

Publicação do pedido de patente

#3.1

03/13/2001

RPI 1575

Pedido de patente depositado

#2.1

11/28/2000

RPI 1560

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