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Official data from INPI

PROCESSOS PARA REMOVER IMPUREZAS DE MERCÚRIO E SELÊNIO DE UMA SOLUÇÃO DE DEPURAÇÃO ÁCIDA, PARA TRATAR UMA SOLUÇÃO ÁCIDA, PARA RECUPERAR MERCÚRIO E SELÊNIO DE UMA SOLUÇÃO ÁCIDA E PARA REMOVER SELÊNIO DE UMA SOLUÇÃO DE DEPURAÇÃO ÁCIDA.

ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0002611

Type

Invention Patent

Filing

06/09/2000

Publication

01/02/2001

Progress at the INPI

  1. Filing06/09/00
  2. Publication01/02/01
  3. Examination
  4. Allowance11/27/07
  5. Grant04/22/08
  6. Terminated07/31/18

The patent was granted on 04/22/2008 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 07/31/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Noranda Inc.

CA

Inventors

G. M. (pessoa física)

CA

G. H. (pessoa física)

CA

L. R. (pessoa física)

CA

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

09/329353 · 06/10/1999

Abstract

''APARELHO, INSTALAÇÃO DE TRATAMENTO E PROCESSO PARA REMOVER IMPUREZAS DE UMA SOLUÇÃO DE ÁCIDO FRACO, INSTALAÇÃO E PROCESSO PARA TRATAR UMA SOLUÇÃO DE ÁCIDO FRACO, TORTA DE SELÊNIO CONCENTRADA E PROCESSO PARA REMOVER SELÊNIO DE UMA SOLUÇÃO DE DEPURAÇÃO ÁCIDA''. A presente invenção se refere a um aparelho para remover impurezas volatéis tais como mercúrio e selênio de uma solução de ácido fraco resultantes de depuração de gases gerados na produção de ácido sulfúreo por ustulação de concentrados de sulfeto. O aparelho compreende uma unidade de filtração de calcinado para remover calcinado da solução de ácido fraco, uma unidade de mistura de sulfeto de sódio para precipitar mercúrio da solução de ácido fraco, uma unidade de mistura de ditionito de sódio para precipitar selênio da solução de ácido fraco e uma unidade de filtração de mercúrio-selênio para filtrar o mercúrio e o selênio precipitados da solução de ácido fraco. A presente invenção ainda se refere a uma instalação de tratamento que utiliza este processo, um processo para remover impurezas voláteis de uma solução de ácido fraco e uma torta de selênio obtida pela utilização da presente invenção.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2466 de 10-04-2018 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

07/31/2018

RPI 2482

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 18ª anuidade.

04/10/2018

RPI 2466

Concessão da patente

#16.1

04/22/2008

RPI 1946

Deferimento

#9.1

11/27/2007

RPI 1925

Publicação do pedido de patente

#3.1

01/02/2001

RPI 1565

Pedido de patente depositado

#2.1

11/28/2000

RPI 1560

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