DERIVADOS DE OXIMA E O SEU USO COMO ÁCIDOS LATENTES

IPC Classification

Priority claims

Abstract

Patente de Invenção: "DERIVADOS DE OXIMA E O SEU USO COMO ÁCIDOS LATENTES" . Compostos da fórmula I, II e III, em que em que R~ 1~ é, por exemplo, hidrogênio, C~ 1~-C~ 12~ alquila, C~ 3~-C~ 30~ cicloalquila, C~ 2~-C~ 12~ alquenila, C~ 4~-C~ 8~ cicloalquenila, fenila, que está substituída ou não-substituída, naftila, antracila ou fenantrila, substituída ou não-substituída, radical de heteroarila que está substituído ou não-substituído; em que todos os radicais R~ 1~ com a exceção de hidrogênio podem adicionalmente estar substituídos por um grupo tendo uma ligação de -O-C ou uma ligação de -O-Si que cliva pela ação de um ácido; R'~ 1~ é, por exemplo, fenileno, naftileno, difenileno ou oxidifenileno, em que estes radicais estão substituídos ou não-substituídos; R~ 2~ é halogênio ou C~ 1~-C~ 10~ haloalquila; R~ 3~ é, por exemplo, C~ 1~-C~ 18~ alquilsulfonila, fenilsulfonila, naftilsulfonila, antracilsulfonila ou fenantrilsulfonila, em que os grupos estão substituídos ou não-substituídos, ou R~ 3~ é, por exemplo, C~ 2~-C~ 6~ haloalcanoíla ou halobenzoíla, R'~ 3~ é, por exemplo, fenilenodissulfonila, naftilenodissulfonila, difenilenodissulfonila, ou oxidifenilenodissulfonila, em que estes radicais estão substituídos ou não-substituídos, X é halogênio; são especialmente adequados como doadores de ácido fotossensíveis em formulações de "resist" quimicamente ampliadas.