Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
04/29/2014
RPI 2260
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 07/15/2010 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 04/29/2014. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
L. P. (pessoa física)
SP, BR
Inventors
L. P. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM FORNALHA PARA AQUECIMENTO DE PRODUTOS POR EXAUSTÃO TÉRMICA. É constituído por uma fornalha para aquecimento de produtos por exaustão térmica (1), que pertence ao campo da engenharia termodinâmica e diferentemente dos modelos convencionais de aquecimento a seco, integra uma câmara primária de combustão (2), de estrutura parabólica, envolta com certa equidistância de suas faces, de modo a formar uma segunda câmara, por uma carenagem (3) de aspecto quadrático, dotada de uma janela de entrada de ar (11) em cada lateral, a qual é encimada por uma sobre-carenagem (12) que forma um maior vão interno, de geometria trapezoidal, cuja maior altura se finaliza, unindo-se ao radiador trocador de calor (5); a carenagem (3), bem como todo o conjunto, são sustentados por quatro pés de apoio (13), alocado em cada vértice inferior; na porção frontal do radiador de exaustão (5) é acopíado um duto exaustor (15).
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
04/29/2014
RPI 2260
#11.1
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