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Official data from INPI

DISPOSITIVO COLETIVO PARA ESCOVAS DE DENTE

ExtintaUtility Model

Application data

Number

MU8901713

Type

Utility Model

Filing

08/18/2009

Publication

05/03/2011

Progress at the INPI

  1. Filing08/18/09
  2. Publication05/03/11
  3. Examination
  4. Allowance11/01/16
  5. Grant01/03/17
  6. Terminated10/15/19

The patent was granted on 01/03/2017 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/15/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

M. B. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

M. B. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

DISPOSITIVO COLETIVO PARA ESCOVAS DE DENTE. Refere-se o presente objeto a um dispositivo para guardar escovas de dente, onde todas as escovas ficam na posição vertical, não havendo nenhum contato entre elas e impedindo a transmissão de bactérias. O dispositivo possui tampa, que impede o acesso de insetos; possui também um sistema de ventilação e/ou higienização através de luz ultravioleta ou similar, que impossibilita a criação de mofos, proliferação de bactérias e transmissão de doenças.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2529 de 25-06-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

10/15/2019

RPI 2545

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 10ª anuidade.

06/25/2019

RPI 2529

Concessão da patente

#16.1

01/03/2017

RPI 2400

Deferimento

#9.1

11/01/2016

RPI 2391

8.7

01/12/2016

RPI 2349

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 6ª anuidade.

06/16/2015

RPI 2319

Publicação do pedido de patente

#3.1

05/03/2011

RPI 2104

Pedido de patente depositado

#2.1

12/15/2009

RPI 2032

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