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Official data from INPI

CULTIVO DE ORQUÍDEAS EM ISOPOR

Arquivada/ExtintaUtility Model

Application data

Number

MU8900609

Type

Utility Model

Filing

04/24/2009

Publication

12/21/2010

Progress at the INPI

  1. Filing04/24/09
  2. Publication12/21/10
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 09/10/2013. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

M. C. (pessoa física)

MS, BR

Inventors

M. C. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

CULTIVO DE ORQUIDEAS EM ISOPOR. Constitui-se de um Cultivo de Orquídeas em Isopor, desenvolvido para substituir o sistema de cultivo de orquídeas e outras plantas hospedeiras que são atualmente utilizados, no qual tanto as placas, palitos, vasos, substratos ou drenagem serão todos confeccionados em isopor (poliestireno), uma vêz que atualmente as orquídeas são cultivadas normalmente em vasos, placas de xaxim ou fibra de côco e ainda em madeira ou mesmo em árvores, terra ou pedra, dependendo da espécie. O cultivo de orquídeas e outras plantas hospedeiras no isopor é novidade no mercado pois o substrato conhecido e mais utilisado são fibras de coco e xaxim, enquanto que o cultivo das mesma no isopor alem de favorecer para um crescimento mais rápido, trará grandes benefícios na orquidofilia e será uma revolução a nível Brasil e Mundo, pois o mesmo não agride a natureza já que não será retirado da mesma, sendo assim, podemo contribuir para o não efeito estufa.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao arquivamento publicado na RPI 2156 de 02/05/2012.

09/10/2013

RPI 2227

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

05/02/2012

RPI 2156

Publicação do pedido de patente

#3.1

12/21/2010

RPI 2085

Pedido de patente depositado

#2.1

08/11/2009

RPI 2014

Patent monitoring

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