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Official data from INPI

LUVA NITRÍLICA COM DISPOSITIVO DE LIMPEZA ACOPLADO

Arquivada/ExtintaUtility Model

Application data

Number

MU8803164

Type

Utility Model

Filing

12/17/2008

Publication

08/03/2010

Progress at the INPI

  1. Filing12/17/08
  2. Publication08/03/10
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/02/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

A. L. (pessoa física)

SP, BR

L. R. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

A. L. (pessoa física)

BR

L. R. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

A presente patente modelo de utilidade refere-se à uma luva inteiriça com dispositivo de limpeza fixado em sua região palmar; o referido dispositivo de limpeza pode ter a sua fixação temporária, por meio de velcro, ou permanente, por meio de substâncias adesivas de alta potencia; o referido dispositivo de limpeza possui preferencialmente o formato idêntico ao da mão incluindo-se os dedos; o dispositivo de limpeza com fixação temporária permite que este seja substituído sempre que se fizer necessário. São produzidas com 100 de borracha nitrílica, não há cera, plastificante ou silicone em sua formulação, os quais podem ocasionar contaminação no manuseio ou fabricação de diversos produtos, ainda protegem contra respingos de químicos, possuem bainha para a proteção dci pulso, não contém talco, amido ou proteinas para evitar irritação nas mãos do usuário.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2156 de 02/05/2012.

10/02/2012

RPI 2178

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

05/02/2012

RPI 2156

Publicação do pedido de patente

#3.1

08/03/2010

RPI 2065

Pedido de patente depositado

#2.1

10/13/2009

RPI 2023

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