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Official data from INPI

DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM VÁLVULA AUTOMÁTICA DE TORNEIRAS E SIMILARES

Arquivada/ExtintaUtility Model

Application data

Number

MU8802476

Type

Utility Model

Filing

05/05/2008

Publication

01/05/2010

Applicants and inventors

Applicants

M. A. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

M. A. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM VÁLVULA AUTOMÁTICA DE TORNEIRA E SIMILARES. É constituída por uma válvula de fechamento automático (1), pertencente ao campo da hidráulica; integra a por uma sequência de peças cilíndricas torneadas e conformad s que se acoplam em concentricidade, entremeadas por anéis de edação (2); a válvula de fechamento automático (1) se oclusa em dois extremos, onde o superior é constituído por uma capa cili drica (3), a qual é comprimida manualmente e, o inferior é con tituído por uma caixa base (4), cujo topo possui rosca (5) intern e, uma formação de porca mecânica (6) externa, sob a qual há o tra formação de rosca (5), para fixação do conjunto à estrutura da t rneira (7), sendo que na porção inferior, há rasgos lineares (8) p ssantes; sob a capa cilíndrica (3), espaçada por uma mola helico daí (9) de retorno, há uma capa envoltória (10) dotada de orifício de topo e flange de base (11), a qual abriga um cilindro de eixo (12); eixo (14) é formado por uma haste segmentada em três porções; envolto ao eixo (14) com curso longitudinal reduzido, há o acoplamento de um êmbolo (16), composto por duas estruturas.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

PATENTE EXTINTA EM 18/04/2025

02/25/2025

RPI 2825

Concessão da patente

#16.1

04/18/2017

RPI 2415

Deferimento

#9.1

02/21/2017

RPI 2407

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

10/11/2016

RPI 2388

8.7

04/05/2016

RPI 2361

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 7ª anuidade.

12/01/2015

RPI 2343

Publicação do pedido de patente

#3.1

01/05/2010

RPI 2035

Pedido de patente depositado

#2.1

03/31/2009

RPI 1995

Patent monitoring

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