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Official data from INPI

DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA A COMANDOS ELÉTRICOS DE VÁLVULA PARA PULVERIZAÇÃO

Arquivada/ExtintaUtility Model

Application data

Number

MU8801635

Type

Utility Model

Filing

07/18/2008

Publication

01/05/2010

Applicants and inventors

Applicants

L. S. (pessoa física)

RS, BR

L. S. (pessoa física)

RS, BR

Inventors

L. S. (pessoa física)

BR

L. S. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA A COMANDOS ELÉTRICOS DE VÁLVULA PARA PULVERIZAÇÃO. A presente invenção de odeio de utilidade refere-se a um comando elétrico de válvulas para pulverização, destinado a aplicação especialmente na á ea agrícola para pulverização de líquidos, porém não se limitan o a essa área. Em essência, busca-se a caracterização de uma ova concepção de construção de comandos de pulverização, permitindo formar diversas configurações para atender todo o ti o de necessidade, desde um comando de válvulas totalmente elétri o até um comando de válvulas para ser adaptado a um já existente. O diferencial desse comando esta na carcaça da válvula, possibilita do ser configurado de várias maneiras. Diante disso, é intenção da presente melhoria, caracterizar uma válvula de seção elétrica p rmitindo obter um comando de pulverização totalmente aut matizado, sendo controlado através de um painel de comando à longa distancia, assim consegue unir válvulas volumétrica e de seção elétricas em um só comando, não dependendo de adaptaçóe

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2342 de 24-11-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

03/29/2016

RPI 2360

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 7ª anuidade.

11/24/2015

RPI 2342

Publicação antecipada

#3.2

01/05/2010

RPI 2035

Pedido de patente depositado

#2.1

10/28/2008

RPI 1973

Patent monitoring

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