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Official data from INPI

LONA PERFURADA PARA IMPRESSÕES DE COMUNICAÇÃO VISUAL

Em AnáliseUtility Model

Application data

Number

MU8701093

Type

Utility Model

Filing

06/25/2007

Publication

03/10/2009

Progress at the INPI

  1. Filing06/25/07
  2. Publication03/10/09
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned at the INPI. The case ended without a patent and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 03/10/2009. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

C. C. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

C. C. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

LONA PERFURADA PARA IMPRESSÕES DE COMUNICAÇÃO VISUAL. A presente Patente de Modelo de Utilidade diz respeito a Lona Perfurada Para Impressões de Comunicação Visual, (1), formada por duas capas de tecido, sendo constituída por uma lona perfurada (2) fabricada em PVC - Policloreto de Vinila, a qual corresponde ao substrato para aplicação das impressões e um liner (2) ou forro de TNT- Tecido Não Tecido, destacando-se que o substrato possui gramatura adequada aos fins previstos, foi dimensionada para resistir as temperaturas decorrentes do processo de impressão, bem como é altamente resistente aos solventes utilizados nas impressões, sendo que o liner (3) ou forro e TNT - Tecido Não Tecido tem como finalidade oferecer melhorias na qualidade das impressões, aceleração do processo produtivo com a conseqúente redução de custos, impressões mais nítidas, evitar o travamento da impressora já que mantém a temperatura no patamar adequado durante todo o processo de impressão evitando manchas durante a impressão, além de aumentar a vida útil do material no estoque.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Publicação do pedido arquivado definitivamente

#3.6

03/10/2009

RPI 1992

Arquivamento do pedido - Art. 216 §2° da LPI

#11.6

01/20/2009

RPI 1985

Pedido de patente depositado

#2.1

09/18/2007

RPI 1915

Patent monitoring

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