Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
09/21/2010
RPI 2072
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 06/02/2006 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 09/21/2010. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
D. F. (pessoa física)
GO, BR
Inventors
D. F. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
MÁQUINA PARA PRODUZIR NÉVOA BAIXA DE NITROGÊNIO LÍQUIDO Patente de Modelo de Utilidade para uma máquina para produzir névoa baixa de nitrogênio líquido que é compreendida por um reservatório cilíndrico (3) para o armazenamento da água, contendo em sua entrada um funil com tampa (6) inclinado na parte superior, que constitui a entrada, onde o nitrogênio liquido é inserido, e um tubo de 75mm (2) que corresponde á saída, por onde a névoa é lançada. A este reservatório estão acoplados um termostato (9) para controle de temperatura, uma resistência (7) de alta potência para aquecer a água e manter o aquecimento, um menisco (8) para indicação da quantidade de água no reservatório, rodas giratórias (5) para facilitar a locomoção e uma mangueira sanfonada (10) para conduzir a névoa em direções diversas, produzindo os efeitos desejados pelo operador.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
09/21/2010
RPI 2072
#11.1
06/15/2010
RPI 2058
#3.1
01/22/2008
RPI 1933
#2.1
08/08/2006
RPI 1857
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