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Official data from INPI

DISPOSIÇÃO EM VÁLVULA PARA CILINDRO DE GÁS DE ALTA PRESSÃO

ArquivadaUtility Model

Application data

Number

MU8400231

Type

Utility Model

Filing

01/15/2004

Publication

09/13/2005

Progress at the INPI

  1. Filing01/15/04
  2. Publication09/13/05
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 01/15/2004 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/21/2008. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

C. F. (pessoa física)

RS, BR

Inventors

C. F. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"DISPOSIÇÃO EM VÁLVULA PARA CILINDRO DE GÁS DE ALTA PRESSÃO". Destinada ao uso em sistemas de gás natural veicular, sendo constituída por um invólucro estanque em forma de 'T' (1) dotado de um volante (2), que propicia acesso através de abertura (3) aos componentes internos, visando realizar reparos e substituições dos mesmos. As extremidades laterais da válvula são equipadas com aberturas para conexão de dutos de alta pressão (4) e apresentam sistema de lacre do invólucro estanque (1), constituído por encaixes anti-violação (5) que cooperam com encaixes correspondentes existentes nas extremidades de tubo extensivo acoplado aos mesmos, de forma a que quando estes são conectados não podem mais ser retirados. A válvula é ainda equipada com aberturas (6) que provêem ligação direta com o interior da mesma, pelo menos uma em cada uma das extremidades laterais, destinadas a instalação de válvulas de alívio contra temperaturas excessivas.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

10/21/2008

RPI 1972

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

07/15/2008

RPI 1958

Publicação do pedido de patente

#3.1

09/13/2005

RPI 1810

Pedido de patente depositado

#2.1

06/22/2004

RPI 1746

Patent monitoring

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