Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
12/26/2006
RPI 1877
Progress at the INPI
- Filing11/05/02
- Publication07/27/04
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 11/05/2002 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 12/26/2006. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
R. D. (pessoa física)
PR, BR
Inventors
R. D. (pessoa física)
BR
Technical data
IPC Classification
Abstract
"BASE DE SUSTENTAÇÃO PARA MOSTRUÁRIO". Que se trata de uma base de sustentação de haste de mostruários verticais, que necessitam de deslocamento sobre o próprio eixo, mas que não podem ficar sem controle de movimento, composto por duas peças confeccionadas em aço (1 e 5), em que a haste (8), presa à base interna (5), ao ser movimentada, pode efetuar o movimento rotatório ao ser levemente erguida com a base interna (5), e permanece imóvel quando da inércia das peças, auxiliada pelo formato e atrito existente entre a base externa (1) e a base interna (5).
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
09/12/2006
RPI 1862
Publicação do pedido de patente
#3.1
07/27/2004
RPI 1751
Pedido de patente depositado
#2.1
05/27/2003
RPI 1690
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