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Official data from INPI

DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM VÁLVULA PILOTO

ArquivadaUtility Model

Application data

Number

MU8200377

Type

Utility Model

Filing

03/04/2002

Publication

10/05/2004

Progress at the INPI

  1. Filing03/04/02
  2. Publication10/05/04
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 03/04/2002 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/25/2005. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

A. P. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

A. P. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM VÁLVULA PILOTO permitindo diminuição no tempo de abertura e fechamento da válvula, ou diferencial de pressão, bem como permitindo um ajuste feito a partir do corpo do regulador de pressão (16) abrangendo a variação da pressão necessária para a abertura da válvula, para vários sistemas, com o uso de apenas uma mola (15), (sem necessidade de substituição de peças), bem como evitando posteriores regulagens e aferições na esfera (7) sendo o corpo de regulagem do diferencial de pressão (10), construído em peças única, monobloco, formando uma guia perfeita para a haste de regulagem (13) da esfera (7), a qual posiciona-se alinhada pelo corpo monobloco (10) sem travamentos e permitindo à válvula piloto cumprir sua função com eficácia para comandar a abertura ou fechamento de uma segunda válvula ou válvula de alívio, para que o reservatório de ar de um compressor mantenha-se com pressão constante para o sistema em utilização.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

10/25/2005

RPI 1816

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

07/19/2005

RPI 1802

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/05/2004

RPI 1761

Pedido de patente depositado

#2.1

04/02/2002

RPI 1630

Patent monitoring

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