Publicação do pedido arquivado definitivamente
#3.6
01/31/2017
RPI 2404
The application was abandoned at the INPI. The case ended without a patent and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 01/31/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
A. S. (pessoa física)
RJ, BR
Inventors
A. S. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
VÁLVULA REDUTORA/REGULADORA DE PRESSÃO FIXA EM CILINDROS PARA GASES COMPRIMIDOS. Trata o presente pedido de Patente de Modelo de Utilidade (MU), de uma nova disposição construtiva em "válvula redutora I reguladora de pressão fixa em cilindros, para utilização em todos os gases comprimidos à alta pressão'' ou mais particularmente, a um Regulador de Pressão I fixo ao cilindro, especialmente projetado para unificar a válvula de abrir e fechar do cilindro de gás e o regulador de pressão removível (convencional}, em uma só peça, direta mente fixado ao gargalo do cilindro de gás, que oferece melhorias específicas quanto à sua fabricação, montagem, funcionamento e utilização, tornando-a segura quanto aos riscos de vazamento. Em linhas gerais, a Válvula Reguladora de Pressão I fixa em cilindros, compreende um corpo único (1), externamente dotado de rosca na sua extremidade inferior (2), prevendo Conexão de Entrada de gás (3) e um tampão (4), que é preso por uma corrente (5), à conexão de entrada do gás (3), possuindo uma Conexão de Saída simples e/ou autovedante do gás (6), Manômetro de Entrada (7), Manômetro de Saída (8), Válvula de Segurança (9), prevendo ainda uma tampa cilíndrica (1 O}, com conjunto de regulagem (11), que prevê orifícios na parte sextavada da tampa (12), além de outros componentes e acessórios, estando previsto modelos variantes quanto às dimensões e a configuração geral.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#3.6
01/31/2017
RPI 2404
#11.6
06/22/2004
RPI 1746
Baseado no art. 216 §1º da LPI, apresente cópia autenticada da procuração para que esta seja aceita.
09/30/2003
RPI 1708
#2.1
02/26/2002
RPI 1625
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